北京離子濺射/蒸碳一體機- 儀器尺寸： 400mm×300mm×400mm（L×W×H）
- 真空樣品室：硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm（D×H）
- 靶（上部電極）： 50mm×0.1mm（D×H）
- 樣品臺： 50mm （D）
- 操作真空： 4×10-1mbar至2×10-2mbar
- 工作電壓： 0-1600V （DC）可調(diào) 。

產(chǎn)品型號：GH/ETD-2000C

更新時間：2024-10-24

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

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產(chǎn)品分類

實驗室常用設備、化行業(yè)工設備

測汞儀腐蝕率測定儀反應釜、反應器旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器恒溫水浴/油浴磁力攪拌器/電動攪拌器、攪拌機粉碎機/破碎機/研磨機/球磨機微波反應器/消解儀離心機/離心泵、蠕動泵比重計/密度計培養(yǎng)箱/試驗箱/干燥箱/氣候箱滅菌器/接種器真空泵/循環(huán)泵/循環(huán)器定氮儀/吹氮儀/定硫儀干燥機/冷凍機天平/秤露點儀、水分儀/水分測定儀振蕩器/搖床滴定儀/庫侖儀瀝青檢測儀、絕緣油檢測設備粘度計熔點儀蒸餾器/蒸餾水器溶出杯/溶出試驗儀真空表/水表、界面張力儀電爐/馬弗爐/電阻爐混合器/混勻器/均質(zhì)器勻漿器/乳化機/分散機/均化儀超聲波清洗器其他實驗室化工設備

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產(chǎn)地類別	國產(chǎn)

離子濺射/蒸碳一體機濺射蒸碳儀

型號：GH/ETD-2000C

技術參數(shù)
北京離子濺射/蒸碳一體機配置參數(shù)如下：

- 儀器尺寸： 400mm×300mm×400mm（L×W×H）
- 真空樣品室：硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm（D×H）
- 靶（上部電極）： 50mm×0.1mm（D×H）
- 樣品臺： 50mm (D)
- 操作真空： 4×10-1mbar至2×10-2mbar
- 工作電壓： 0-1600V (DC)可調(diào)
- 濺射電流： 0-50mA
- 濺射定時： 1-9999S
- 蒸碳電流 0-10A(AC)
- 真空泵： 4升兩級機械旋轉(zhuǎn)泵（極限真空2×10-2mbar）

北京離子濺射/蒸碳一體機主要特點
在 ETD-2000/3000 離子濺射儀基礎上，增加了熱蒸發(fā)附件，可以蒸發(fā)碳絲，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。因此擴展了應用范圍，特別適用于掃描電鏡實驗室樣品制備。

儀器介紹
ETD-2000C 濺射蒸碳儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設計而成的，zui簡單、可靠、經(jīng)濟的鍍膜設備。同時增加了熱蒸發(fā)附件，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。

滿足電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備和非導體材料實驗電極制作。
技術參數(shù)
配置參數(shù)如下：

- 儀器尺寸： 400mm×300mm×400mm（L×W×H）
- 真空樣品室：硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm（D×H）
- 靶（上部電極）： 50mm×0.1mm（D×H）
- 樣品臺： 50mm (D)
- 操作真空： 4×10-1mbar至2×10-2mbar
- 工作電壓： 0-1600V (DC)可調(diào)
- 濺射電流： 0-50mA
- 濺射定時： 1-9999S
- 蒸碳電流 0-10A(AC)
- 真空泵： 4升兩級機械旋轉(zhuǎn)泵（極限真空2×10-2mbar）
主要特點
在 ETD-2000/3000 離子濺射儀基礎上，增加了熱蒸發(fā)附件，可以蒸發(fā)碳絲，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。因此擴展了應用范圍，特別適用于掃描電鏡實驗室樣品制備。
儀器介紹
ETD-2000C 濺射蒸碳儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設計而成的，zui簡單、可靠、經(jīng)濟的鍍膜設備。同時增加了熱蒸發(fā)附件，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。

滿足電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備和非導體材料實驗電極制作。
技術參數(shù)
配置參數(shù)如下：

- 儀器尺寸： 400mm×300mm×400mm（L×W×H）
- 真空樣品室：硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm（D×H）
- 靶（上部電極）： 50mm×0.1mm（D×H）
- 樣品臺： 50mm (D)
- 操作真空： 4×10-1mbar至2×10-2mbar
- 工作電壓： 0-1600V (DC)可調(diào)
- 濺射電流： 0-50mA
- 濺射定時： 1-9999S
- 蒸碳電流 0-10A(AC)
- 真空泵： 4升兩級機械旋轉(zhuǎn)泵（極限真空2×10-2mbar）
主要特點
在 ETD-2000/3000 離子濺射儀基礎上，增加了熱蒸發(fā)附件，可以蒸發(fā)碳絲，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。因此擴展了應用范圍，特別適用于掃描電鏡實驗室樣品制備。
儀器介紹
ETD-2000C 濺射蒸碳儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設計而成的，zui簡單、可靠、經(jīng)濟的鍍膜設備。同時增加了熱蒸發(fā)附件，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。

滿足電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備和非導體材料實驗電極制作。